ЭКСПОЗИЦИОННЫЕ КАМЕРЫ
Экспозиционная камера – необходимое оборудование для изготовления клише (для тиснения и тампопечати), печатей и штампов по фотополимерной технологии. Основным преимуществом фотополимерной технологии является простота и низкая себестоимость клише. Принцип действия всех экспонирующих камер одинаков! Они различаются лишь суммарной мощностью ламп и размером рабочего поля.Экспонирование происходит путем облучения фоточуствительного слоя пластины УФ-излучением через пленочный макет с целью получения образа. В качестве осветителей используются ультрафиолетовые лампы с длиной волны от 340 до 400 нм. Наша компания предлагает универсальные засветочные камеры для изготовления клише производства фирм LM-PRINT, TIC и Teca-print. |
 |
Технология изготовления полимерного клише:
-
Для изготовления фотополимерной печатной формы необходимо иметь негатив с максимальной плотностью не менее 3,5 и плотностью вуали до 0,05.
-
Снимите покровную пленку с непроявленной пластины. Положите негатив эмульсионным слоем вниз на непроявленную пластину и закройте сверху вакуумной пленкой, включите вакуумный насос.
-
Установите время экспозиции (в зависимости от ультрафиолетовых ламп) на копировальной установке, имеющей источник света с ультрафиолетовым спектром (250-130 нм).
-
После экспозиции снимите негатив, установите экспонированную фотополимерную пластину на держатель вымывной установки и вымойте водой или раствором Solvent (в зависимости от типа пластины).
-
После удаления воды с поверхности обработанной пластины губкой или сжатым воздухом (или промакательной бумагой, которая хорошо впитывает), сушите пластину в сушильной секции установки.
-
Для удаления липкости с флексопластины после сушки, ее необходимо обработать УФ-С или присыпать тальком, после этого провести дополнительное экспонирование.
-
Проведите дополнительную экспозицию, которая позволит увеличить прочность печатной формы. После этого пластина готова к применению в печатной машине.
ПРИМЕНЕНИЕ: Пластина должна быть вымыта до подложки. Точное время экспозиции выбирается опытным путем в зависимости от износа ламп ультрафиолетового излучения.
|
|
